文 | 财经思享汇，作者 | 刘亚杰，编辑 | 管东生
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同样是半导体设备商的定位，中微公司（688012.SH）和北方华创（002371.SZ）之间差距有些明显。尤其在追赶者有概念支撑和能力优势的时候，后来居上的野心是藏不住的。
中微公司肯定是那个后来者：结合财报信息，在逻辑集成电路制造环节，中微公司开发的12英寸高端刻蚀设备，已运行在国际知名客户最先进的生产线上，在5nm及以下高精度器件加工过程中发挥重要作用；截至2025年上半年，14项在研项目中有9项框定为“国际先进水平”。
为巩固技术优势，加大研发投入成为普遍选择，中微公司更为决绝，自2020年以来，研发费用已经从6.4亿元涨至2024年的24.52亿元，CAGR（Compound Annual Growth Rate，年复合增长率）达到39.91%。值得一提的是，截至2025年三季度，其1190名研发人员数量以及30.07%研发费用率，均达到近期最高点。
要知道，截至2025年上半年，科创板企业平均研发费用率约为4.64%。为实现快速突进，中微公司竭尽全力。
展开剩余88%相比之下，北方华创要稳定得多。互动平台上，公司曾明确表示，其产品主要面向国内市场，出口占比较低。因此自2020年以来的业绩增长，主要支撑力来自国内。研发费用的绝对值也在增加，只是费用率稳定在20%以内，略逊于中微公司。
按照二级市场的偏好，全球化执行力更强的上市公司，普遍受到投资人的青睐，阳光电源（300274.SZ）和纽威股份（603699.SH）就是很好的例子，不过在中微公司这里失效了。
公开数据显示，截至11月6日，A股半导体设备板块的22家上市公司中，平均市盈率约为60倍左右，中微公司已经达到119倍，可见投资人信心满怀。即便如此，相比北方华创二者之间市值的差距仍然超过1000亿元。
再看股价波动，整个2025年（截至11月6日），北方华创股价涨了2.05%，中微公司涨了62.06%。不少人将前者视为半导体设备行业的风向标，于是认为股价没能突破意味着资本热情正在减退，现在的北方华创或成为明天的中微公司。
于是问题来了：北方华创真的是中微的上限吗？如果中微公司延续涨势，能够无限接近甚至反超北方华创吗？
被忽略的鸿沟
其实将中微公司与北方华创对比并不很合适。
查看发展史，两家公司能在半导体刻蚀概念找到交集。中微公司起步于CCP（Capacitively Coupled Plasma，电容耦合等离子体），主要用以刻蚀氧化物（SiO₂）、氮化物（Si₃N₄）等键能较大的介质材料。
北方华创聚焦ICP（Inductively Coupled Plasma，电感耦合等离子体），用于FinFET结构栅极的硅和多晶硅刻蚀，引起低损伤刻蚀的属性能够确保产品精度，相关产品更多应用于加工敏感材料，实现高精度的线宽控制。
数据来源：交银国际
随着时间的发展，两家公司的轨迹有了不同方向。2024年财报显示，中微公司的刻蚀设备收入为72.77亿元，按整体营收90.65亿元计算，刻蚀设备板块的收入占比为80.28%。换言之，这是一家以刻蚀设备为绝对核心竞争力的企业。
再看北方华创，2023年刻蚀设备与薄膜覆盖设备两大板块营收贡献在60亿元“会师”以后，2024年后者接过班，以超过100亿元的总量成为支柱业务，同期的刻蚀设备收入超过80亿元，其他板块收入整体约百亿元。
换言之，只论核心产品板块的丰富程度，北方华创已经有了刻蚀设备与薄膜覆盖设备两张“王牌”，中微公司仍然只有刻蚀设备一张“王牌”。相比之下，前者的成长空间理应更广阔。
某种程度上，这也成为中微公司客户较为集中的原因。结合财报数据，2024年中微公司的前五名客户销售额为63.65亿元，占年度销售总额的70.22%；相比之下北方华创这两组数据为83.2亿元与27.88%。
正因如此，两家公司的规模已经不在同一水平线上。综合近些年财报数据，中微公司的营收和归母净利润一直维持向上增长趋势，截至2025年三季度两组数据分别为80.63亿元与12.11亿元，前者已经超过2023年的全年营收。
不过对比来看，中微公司80.63亿元的整体营收，只相当于北方华创2024年刻蚀设备收入水平；提到增长空间时，中微公司会强调PRISMO A7、PRISMO HiT3、PRISMO UniMax等MOCVD（Metal-organic Chemical Vapor Deposition，金属有机化合物化学气相沉积）设备的国际领先性，或者2025年上半年，LPCVD（Low Pressure Chemical Vapor Deposition，低压化学气相沉积）设备同比增幅达到608.19%。
只是到目前为止，这些薄膜覆盖设备带来的营收规模仍然有限，短时间内仍然难以追平差距。因此中微公司还要继续扮演追赶者的角色。
“在A股市场，以刻蚀技术为主业，同时具备一定规模优势的企业，除了北方华创就剩中微公司。”一位业内人士表示，截至目前两家公司并未处于相同发展阶段。
青出于蓝的执念
虽然差距客观存在，但是作为追赶者，中微公司后来居上的念头并未熄灭。
根据SEMI发布的统计数据，在晶圆制造设备市场，按照价值链收入占比排名，光刻（24%）、刻蚀（20%）、薄膜沉积（20%）为最重要的三个环节，其他如清洗、离子注入、抛光、检测等环节，共同分享不到40%的市场机会。
曾经有过介绍，除阿斯麦（光刻设备）与科磊（检测设备）聚焦在单一环节，半导体设备前五强有三家——应用材料、泛林半导体（Lam Research）、TEL（Tokyo Electron）都在提升整合能力，尽可能覆盖更多工艺环节，可见平台化模式是全球半导体设备头部供应商的共同选择。
董秘办工作人员表示，强调全流程整合能力，坚定平台化与专业化方向，是北方华创的选择。除刻蚀与薄膜沉积，目前还拓展清洗和热处理等环节。
中微公司也认可平台化发展路线。2025年半年报中，中微公司董事长、总经理尹志尧表示，目前中微公司超过30种设备已覆盖半导体高端设备的25%-30%，计划在未来5-10年逐步覆盖半导体高端设备的50%-60%，成为一家平台型集团公司，客观上与北方华创选择了相同的路径。
不过在相同战略的驱动下，两家公司并未趋同，反而走向了不同的方向。如前所述，围绕着刻蚀与薄膜覆盖，两家公司的产品产生了竞争关系；随着产品半径不断扩张，两家公司的不同点开始显现出来。
在半导体设备制造供应链中，北方华创的产品还会覆盖包括热处理、湿法、离子注入、键合设备、涂胶显影等众多设备。工作人员表示，这也是满足客户“一站式”解决采购需要，以减轻供应链管理负担的结果。
虽然这些板块的价值还不能与刻蚀、光刻、薄膜沉积相提并论，不过也能带来一定的收入。以立式炉为例，2024年北方华创12英寸立式中高温氧化退火炉、12英寸立式低温合金退火炉、12英寸快速热处理设备等产品，收入超20亿元。
相比之下，中微公司平台化发展，没有走与北方华创相同的路线。官方信息显示，中微公司在为集成电路、LED外延片、功率器件、MEMS等半导体产品的制造企业提供刻蚀设备、薄膜沉积设备、MOCVD设备及其他设备，不过也在通过子公司中微惠创的平台，利用分子筛的吸附原理的化学反应器，开发制造了工业用大型净化设备。
2024年中微公司还发起设立超微公司，面向光学量检测设备和电子束量检测市场推出产品。通过多种方式扩大对多门类量检测设备的市场参与和产品覆盖。从结果来看，无论大型净化设备，还是电子束量测设备，中微公司布局的环节均未与北方华创产生交集。
“如果与北方华创选择相同的轨迹，中微公司的想象空间就没那么大了。”半导体业内人士吴强（化名）表示，同质化竞争将会弱化中微公司的特点，只有推进差异化的路线才能实现价值最大化。
“完成差异化布局，再实现实打实的业绩增长，中微公司的价值才能够进一步体现出来。”吴强表示。
未来，转优势为胜势
谈及未来的发展空间，继续提升资产价值，中微公司除了在纸面上实现差异化，还要在业绩环节继续加把劲儿。
宏观来看，中国半导体设备市场的发展前景仍然十分广阔。根据SEMI发布统计报告，随着创新应用引导需求增长，以及国产化替代和产业升级需求推进，预计2025年中国芯片制造商的产能将达到1010万片（Wafer Per Month，晶圆片/每月），增速达到14%，约占全球总产能的33%。
另据交银国际的研报，半导体刻蚀设备的性能参数——深宽比能够达到100：1，可以算作全球领先水平。中微公司第二代AD-RIE产品将深宽比提升至20:1之后，维持着每3-4年更新一代产品的进程，第四代已经提升至60：1，预计2025年向客户发货的第五代产品XD-RIE 深宽比达到90:1，已经接近国际先进水平。
综合这些信息，可见在半导体设备这个增量市场，通过充分发挥技术能力的优势，中微公司并不缺少机会，进一步扩张业务覆盖半径，以推高整体运营表现。自2020年以来，公司的营收和归母净利润CAGR分别达到37.24%与39.31%，都是非常理想的印证。
只是这还不够。
同样是来自财报的数据，自2024年一季度以来，中微公司单季度的运营成本基本保持稳中向上趋势，毛利率也出现一定程度的下行。对此，中微公司董秘办工作人员解释表示，不断推高的研发费用，以及由于规模扩张导致成本增加，都是影响利润空间的原因。
如前所述，相比CAGR，中微公司37.24%的营收增速低于39.91%的研发费用增速。可见中微公司完全可以明确“研发引导业绩增长”的研发型企业标签；只是如何利用高投入的杠杆，撬动更大动能的成长增速，是一个必须考虑的问题。
“我们的收入增速太快了，研发投入环节（的增速）很难匹配。”董秘办工作人员观点证明，北方华创已经进入“通过规模优势降低边际成本”的状态；相比之下，中微公司如何走进相同的状态，还需要一段时间的观察。
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